項(xiàng)目信息
項(xiàng)目名稱
中國(guó)專利獎(jiǎng)
企業(yè)名稱
中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司
公示時(shí)間
項(xiàng)目級(jí)別
部委
組織部門
國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局
年份
2014
課題名稱
包含多個(gè)處理平臺(tái)的去耦合反應(yīng)離子刻蝕室
證書編號(hào)
ZL200710042285.5
資助金額
-
申報(bào)批次
第十六批
人員名稱
尹志堯、倪圖強(qiáng)、陳金元、錢學(xué)煜
數(shù)據(jù)來源
關(guān)于第十六屆中國(guó)專利獎(jiǎng)授獎(jiǎng)的決定
來源鏈接
http://www.aimeiren.net.cn/news/19270.html